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加拿大UNB韩慧博士应邀访问武汉磁共振中心

时间: 2012-08-29
   2011年7月4日,加拿大UNB(University of New Brunswick)韩慧博士应武汉磁共振中心雷皓研究员邀请访问,并做了题为“材料磁共振成像和磁共振工程中的一些新硬件和新技术”的报告。

   韩慧博士2000年毕业于郑州大学电子工程专业;2004年获北京大学技术物理系硕士学位;2010年6月获加拿大UNB(University of New Brunswick)物理学博士学位,师从加拿大材料核磁共振成像(Material MRI)首席科学家,国际空间分辨磁共振成像学会主席Bruce J. Balcom。之后,留校继续进行博士后研究工作,完成数篇论文及其承担项目管理工作。2011年3月底在英国举行的“Chemical Process meets Medicine over MRI”世界30人磁共振成像研讨会上,作为受邀的15名年轻科学家之一,在新硬件专题方面进行了20分钟工作报告,并与15名磁共振成像首席科学家进行交流讨论。

    本次报告中,韩博士首先向大家汇报UNB磁共振成像中心在材料磁共振成像中的一些工作,如对多孔介质中流体的定量成像。然后,着重围绕其本人的研究领域——磁共振技术和工程领域方面的工作进行了详细的介绍。1)MFGM(磁场梯度波形监控技术),在不需要外加梯度磁场的作用下可以产生磁场梯度,并且对其研究工作中的结果进行了详细介绍;2)特殊工作环境的金属容器中磁共振成像和新一代高压磁共振成像的新概念和技术。

    韩博士的主要研究领域为:磁共振成像和磁共振硬件工程技术,其精彩的报告及出色的研究成果,受到参与报告的研究人员极大的关注,大家就韩博士的研究工作进行了广泛的讨论,并就双方感兴趣的问题以及将来可能的合作进行了深入的交流。

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